日本SAMCO RIE等離子蝕刻設備

簡要描述：RIE-10NR是一種新型的低成本、高性能、全自動反應離子刻蝕系統，能夠滿足非腐蝕性氣體化學最ke刻的工藝要求。計算機化觸摸屏為工藝配方編程和存儲提供了用戶友好的界面。該系統可以實現精確的側壁輪廓控制和材料之間的高蝕刻選擇性。憑借其圓滑、緊湊的設計，RIE-10NR只需要很小的潔凈室空間。

產品型號：RIE-10NR
廠商性質：代理商
更新時間：2025-08-19
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產品簡介

品牌	其他品牌	晶圓尺寸	8英寸
尺寸	500 mm（寬）x 920 mm（深）x 1501 mm（高）	反應室尺寸	φ340mm

反應離子刻蝕機

SAMCO RIE-10NR



簡介： RIE-10NR是一種新型的低成本、高性能、全自動反應離子刻蝕系統，能夠滿足非腐蝕性氣體化學最KE刻的工藝要求。計算機化觸摸屏為工藝配方編程和存儲提供了用戶友好的界面。該系統可以實現精確的側壁輪廓控制和材料之間的高蝕刻選擇性。憑借其圓滑、緊湊的設計， RIE-10NR只需要很小的潔凈室空間。應用: 硅、二氧化硅、氮化硅、多晶硅、砷化鎵、鉬、鉑、聚酰亞胺等材料的腐蝕失效分析中的選擇性層腐蝕。

主要功能和優點：

1、加工至?220 mm（?3“x 5，?4"x 3，?8"x 1）。

2、高選擇性各向異性蝕刻滿足嚴格的工藝要求全自動“一鍵式"操作。

3、自動壓力控制，允許獨立于氣流干泵和系統布局的過程壓力精確控制，便于維護。

4、于Windows的用戶界面，豐富的配方和內置的數據記錄功能，是一個可靠和持久的系統，全球安裝了400多個系統。

主要參數規格：
基板	220 mm（?3“x 5，?4"x 3，?8"x 1）
負載	開放式
上下電極	?240 mm
射頻功率	300瓦@13.56兆赫，自動匹配（500瓦為選項）可切換射頻供電電極（陽極/陰極模式）為選項
氣體管道	內部2條MFC控制的氣體管道（最多6條）
泵	干泵（500升/分鐘）
操作系統	觸摸屏操作（可選擇基于Windows的用戶界面）、配方管理
端點檢測	光學發射光譜（OES）作為一種選擇
尺寸	500 mm（寬）x 920 mm（深）x 1501 mm（高）