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FIB聚焦離子束

簡要描述:Hitachi聚焦離子束 IM4050:MI4050是高效率的聚焦離子束設備,它使用了全新的電子光學系統,具有shi界的SIM圖像分辨率,并且TEM樣品制備效果優異。MI4050廣泛用于截面觀察、微電路修復、納米圖像制備和納米沉積等。

  • 產品型號:MI4050
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2025-08-18
  • 訪  問  量:3508
  • 產品簡介
品牌其他品牌價格區間面議
產地類別進口應用領域電子/電池
  日立新型FIB…智能聚焦離子束系統 IM4050
 
  自1986年以來,通過多年的fIB經驗,MI 4050被賦予了高度穩定的離子源,所建立的離子光學使銳利的光束剖面和高束電流能夠成像各種功能。 DED功能涵蓋對FIB的廣泛需求,如氣體化學MI 4050可以幫助您推進您的研究和開發。
 
  MI 4050特征
 
  經過驗證的聚焦離子束技術既能實現高分辨率、高對比度的SIM成像,又能快速、大面積FIB銑削。
 
  良好的梁穩定性,級精度和控制軟件允許高精度的自動銑削加工。
 
  微采樣系統和低壓FIB能力支持現場高質量TEM樣品制備。
 
  ?
 
  大電流FIB使銑削面積更大,材料更堅硬,并且比以往任何時候都更高的吞吐量。高通量離子研磨有助于減少像樹脂emb這樣的樣品準備步驟。 編輯和機械拋光。此外,也可以避免因拋光而產生的樣品應變或分層。
 
  大電流為90 nA的高性能FIB
 
高分辨率、高對比度SIM成像。
 
  保證了4nm的高分辨率。高對比度SIM從低放大率成像到高放大率。
 
自動切割的三維結構分析
 
用微取樣法制備現場高質量TEM樣品
 
  微取樣系統
 
       主要特點:
 
  1.高效率、高質量加工,二次離子分辨率:4nm@30kV
 
  2.高分辨、高襯度SIM成像
 
  3.全自動TEM樣品制備
 
  4.大尺寸樣品加工
 
  應用領域:
 
  1.納米材料微加工
 
  2.半導體及電子元器件材料
 
  3.生命科學
 

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