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掃描電子顯微鏡的基本原理分析

更新時間:2021-05-13瀏覽:2268次
       掃描電子顯微鏡電子槍發射出的電子束經過聚焦后匯聚成點光源;點光源在加速電壓下形成高能電子束;高能電子束經由兩個電磁透鏡被聚焦成直徑微小的光點,在透過最后一級帶有掃描線圈的電磁透鏡后,電子束以光柵狀掃描的方式逐點轟擊到樣品表面,同時激發出不同深度的電子信號。此時,電子信號會被樣品上方不同信號接收器的探頭接收,通過放大器同步傳送到電腦顯示屏,形成實時成像記錄 (圖a) 。由入射電子轟擊樣品表面激發出來的電子信號有:俄歇電子 (Au E) 、二次電子 (SE) 、背散射電子 (BSE) 、X射線 (特征X射線、連續X射線) 、陰極熒光 (CL) 、吸收電子 (AE) 和透射電子。每種電子信號的用途因作用深度而異。
       掃描電子顯微鏡可對材料的表面進行高倍率觀察及高精度元素分析,在納米技術、生命科學、產品設計研發及失效分析等領域有著廣泛的應用。 近年來,掃描電鏡觀察表面精細結構及元素分析的需求日趨增加,而越來越多的用戶希望能在生產線、品保檢驗線和辦公區等有限的空間里使用掃描電子顯微鏡。因此,體積小、操作簡便、分辨率高的掃描電子顯微鏡備受關注。FlexSEM 1000主機寬450mm、長640mm,相比SU1510型號體積減小52%,重量減輕45%,功耗減小50%,且配備標準化的電源接口。主機與供電單元可分離,安裝非常靈活。 
 
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